一种氧化镁烧结体靶材的微量硅元素均匀掺杂方法
本发明公开了一种氧化镁烧结体靶材的微量硅元素均匀掺杂方法.首先将硅源溶解制备成前驱液:当所用硅源为可溶于水的如硅酸钠、硅酸、硅酸钾等,直接用去离子水溶解,再进行定容,形成前驱液;当所用硅源为可溶于有机溶剂的硅源,如正硅酸乙脂、三甲基硅醇、四乙酰氧基硅烷等,先溶解于有机溶剂,再以乙醇-水进行定容,形成前驱液.前驱液再与一定重量比的氧化镁原料在球磨机中混合,制备成浆料,从而完成硅元素的均匀掺杂.此浆料再进行喷雾造粒、压制成型、烧结等工序,制备成微量硅元素掺杂的氧化镁烧结体靶材.本发明掺杂时间短,均匀性高,适合工业化应用.
- 专利类型：
- 发明专利
- 申请（专利）号：
- CN201510931180.X
- 申请日期：
- 2016-04-20
- 公开（公告）日：
- 2016-04-20
- 公开（公告）号：
- CN105503159A
- 主分类号：
- C04B35/04(2006.01)I
- 分类号：
- C04B35/04(2006.01)I；C04B35/626(2006.01)I；H01J11/40(2012.01)I；C；H；C04；H01；C04B；H01J；C04B35；H01J11；C04B35/04；C04B35/626；H01J11/40
- 申请（专利权）人：
- 营口镁质材料研究院有限公司
- 发明（设计）人：
- 曾卫军